样品吸收分布对荧光强度的影响及校正方法研究
由于荧光分析法具有灵敏度高，线性范围宽，可供选择的参数多等特点，近年来得到了广泛的应用，研究人员使用荧光分析法进行材料的痕量检测、材料间电子转移效率的分析以及分子猝灭常数的测定。本文介绍了荧光分析法的基本原理和各种方法，着重介绍了荧光分析法的各种优点。但是荧光内滤效应以及样品池中荧光材料对激发光的吸收分布会直接影响荧光谱的强度和谱形，共同制约荧光分析法的应用。使用吸收谱及荧光谱存在交迭的双组分混合溶液，研究一种新的基于物理吸收模型的校正方法，以校正荧光内滤效应及吸收分布对荧光强度的影响。对三聚噻吩和五聚噻吩混合液的光谱研究表明，使用所述校正方法可以达到较为理想的校正效果，误差小于５％。
关键词：荧光分析法；内滤效应；吸收分布；光谱校正
*若需了解更多与协助请咨询↓→[电脑QQ][手机QQ]【数据协助】
